CVD 金刚石膜

富勒烯的另一潜在的应用是它们可作为金刚石薄膜生长的均匀成核位置而起重要作用.富勒烯材料的独特性质之一是它们在较低温度下升华，对于C60，其升华点大约是 600℃，这使得富勒烯在不规则形状表面上的气体沉积覆盖相对来说很容易实现.另外，由于富勒烯易溶于像苯和甲苯这样的极性有机分子溶剂，因而可以在室温下将复杂表面直接浸于制备好的溶液中，待溶

剂挥发后就留下一层富勒烯分子薄膜.

1992 年，美国西北大学的一个研究小组声称他们发现了一种用富勒烯结晶出金刚石薄膜的简单方法.他们使用包含 C70 分子的富勒烯，先在硅表面形成富勒烯薄层，然后用带电粒子轰击它，导致有利于金刚石形成的分子结构， 使用化学气相沉积（CVD）方法，通过天然气与氢气的混合气体，形成许多微小的金刚石.科学家预测，对这种方法加以改进也许能够生长出电子应用中所需要的类似大块单晶的金刚石薄膜，这将使得生长金刚石单晶的梦想成为现实.据说在多晶体生长中，C70 的应用使得在硅表面衬底上金刚石的生成提高了 10 个量级.

金刚石薄膜在军事方面具有许多应用价值，如作为装甲车表面的抗冲击覆盖层，用于制成光学（X 射线，粒子束）窗口，半导体晶片，高硬度表面齿轮，金刚石-纤维合成材料，以及高温和防辐射电子器件等.